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光柵

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光柵是一種非常重要的光學元件。

廣義的光柵定義為:可以使入射振幅相位(或兩者同時)受到週期性空間調製的光學元件。只能使光受到振幅調製或相位調製的光柵,分別稱為振幅光柵相位光柵。按工作方式分,光柵又可分為透射光柵(透射光受調製)和反射光柵(反射光受調製)。

光柵每單位長度內的刻痕多少,主要決定於所分光的波長範圍(兩刻痕距離應與該波長數量級相近),單位長度內的刻痕多,色散度越大。光柵的分辨本領決定於刻痕多少。利用全像攝影技術製備的光柵稱「全像光柵」,不像機刻光柵刻痕有週期性誤差。

通常所說的光柵,是指利用繞射效應對光進行調製的繞射光柵。但也存在利用其它原理對光進行調製的光柵,如晶體折射率光柵。

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