原硅酸盐
| 原硅酸盐 | |
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| 识别 | |
| CAS号 | 17181-37-2 
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| 性质 | |
| 化学式 | SiO4− 4 |
| 摩尔质量 | 92.08 g·mol⁻¹ |
| 若非注明，所有数据均出自标准状态（25 ℃，100 kPa）下。 | |
在化学中，原硅酸盐是阴离子 SiO4−
4及它所形成的盐类和酯类。它是其中一种硅酸盐阴离子。它也被称为四氧化硅阴离子。[1]
原硅酸盐，如：原硅酸钠是稳定的，在硅酸盐矿物中广泛存在。[2]橄榄石，成分为原硅酸镁和原硅酸亚铁，是上层地幔的主要矿物。
原硅酸根是一种强碱，是非常弱的酸原硅酸 H
4SiO
4（pKa2 = 13.2 当 25 °C时）的共轭碱。 由于原硅酸容易分解成水合二氧化硅，因此很难研究这种平衡。 [3]
结构
原硅酸根有着正四面体型结构，由硅原子被四个氧原子环绕而成。
在这个离子里，每个氧原子都携带一价的负电荷。[4]其中的 Si–O 键的键长为 162 pm 。[5]
在有机原硅酸盐，又称原硅酸酯如：四甲氧基硅烷的原硅酸根中的氧原子是中性的，各自形成一个共价键以连接烃基。
用处
铕掺杂的原硅酸钡（Ba2SiO4）是绿色发光二极管（LED）中常用的磷光体。 蓝色发光二极管里的磷光体则是锶掺杂的原硅酸钡。[6]原硅酸钡是真空管中阴极中毒的主要原因。 [7]
有机化学
尽管原硅酸盐在无机化合物和地球化学里广泛存在，不过原硅酸酯却很少。有两个很重要的原硅酸酯可用于有机合成：四乙氧基硅烷，简称TEOS，用于连接聚合物，在制造气凝胶中尤其重要。四甲氧基硅烷，简称TMOS，可以用作TEOS的替代品，也可以用作试剂。TEOS的用处比TMOS更广泛，因为TMOS分解是会产生大量有毒的甲醇。吸入TMOS可能导致二氧化硅在肺部积聚，形成硅肺病。
参考资料
- ^ C. A. Kumins, and A. E. Gessler (1953), "Short-Cycle Syntheses of Ultramarine Blue". Indunstrial & Engineering Chemistry, volume 45, issue 3, pages 567–572. doi:10.1021/ie50519a031
- ^ Western Oregon University. [2020-07-29]. （原始内容存档于2017-11-05）.
- ^ Jurkić, Lela Munjas; Cepanec, Ivica; Pavelić, Sandra Kraljević; Pavelić, Krešimir. Biological and therapeutic effects of ortho-silicic acid and some ortho-silicic acid-releasing compounds: New perspectives for therapy. Nutrition & Metabolism. 2013, 10 (1): 2. ISSN 1743-7075. PMC 3546016
. doi:10.1186/1743-7075-10-2.
- ^ Balaram Sahoo; Nayak Nimai Charan; Samantaray Asutosh; Pujapanda Prafulla Kumar. Inorganic Chemistry. PHI Learning Pvt. Ltd. : 306 [2020-07-29]. ISBN 978-81-203-4308-5. （原始内容存档于2020-09-21）.
- ^ Horacio E. Bergna; William O. Roberts. Colloidal Silica: Fundamentals and Applications. CRC Press. 19 December 2005: 10. ISBN 978-1-4200-2870-6.
- ^ Huayna Cerqueira Streit, Jennifer Kramer, Markus Suta, Claudia Wickleder, "Red, green, and blue photoluminescence of Ba₂SiO4:M (M = Eu3+, Eu2+, Sr2+) nanophosphors" （页面存档备份，存于互联网档案馆）, Materials (Basel), vol. 6, iss. 8, pp. 3079–3093, 24 July 2013 doi:10.3390/ma6083079.
- ^ Jones, Morgan (Electronics engineer). Valve amplifiers 4th. Oxford: Newnes. 2011: 301. ISBN 978-0-08-096640-3. OCLC 760157359.
