草酰氟
草酰氟 | |||
---|---|---|---|
| |||
IUPAC名 Oxalyl difluoride | |||
別名 | 乙二酰氟 | ||
識別 | |||
CAS號 | 359-40-0 ![]() | ||
PubChem | 9668 | ||
ChemSpider | 9287 | ||
SMILES |
| ||
InChI |
| ||
EINECS | 206-630-4 | ||
性質 | |||
化學式 | C2F2O2 | ||
摩爾質量 | 94.017 g·mol⁻¹ | ||
熔點 | -3 °C(270 K) | ||
沸點 | 26.6 °C(300 K) | ||
若非註明,所有數據均出自標準狀態(25 ℃,100 kPa)下。 |
草酰氟是草酸的氟代衍生物,為平面分子[1]。它在刻蝕有着潛在應用,以替代有全球暖化潛勢的化合物使用。[2][3]
參見
參考文獻
- ^ 王冬梅, 耿志遠. 草酰氟分子(FCO)2的量子化學研究[J]. 寶雞文理學院學報(自科版), 2007, 27(1):49-53.
- ^ Method of etching and cleaning using fluorinated carbonyl compounds (頁面存檔備份,存於互聯網檔案館), US Patent 6635185.
- ^ Simon Karecki; Ritwik Chatterjee; Laura Pruette; Rafael Reif; Terry Sparks; Laurie Beu; Victor Vartanian & Konstantin Novoselovc. Evaluation of Oxalyl Fluoride for a Dielectric Etch Application in an Inductively Coupled Plasma Etch Tool. J. Electrochem. Soc. 2001, 148 (3): G141–G149. doi:10.1149/1.1348263.
|